設(shè)備簡(jiǎn)述
ZY-1110大弧離子鍍膜機(jī)是我公司自主研發(fā)的超硬膜離子鍍膜機(jī)，采用獨(dú)有的新型過(guò)濾弧源鍍膜技術(shù)、等離子體增強(qiáng)陽(yáng)極輔助鍍膜技術(shù)，規(guī)劃了爐體內(nèi)等離子體的路線和分布，增強(qiáng)了刻蝕效果，提高了離化率，使得靶材表面被均勻刻蝕，涂層表面更光滑致密，提升了涂層的結(jié)合力，確保了涂層厚度及涂層的均勻性。同時(shí)，新技術(shù)的應(yīng)用提高了鍍膜效率，節(jié)約了能耗和運(yùn)行成本。
設(shè)備參數(shù)
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爐體尺寸 |
Ф1180XH1050 |
有效空間 |
Ф800XH650 |
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應(yīng)用技術(shù) |
IET+ BIG ARC |
靶材數(shù)量 |
IET2+ARC9 xφ160 |
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標(biāo)準(zhǔn)涂層 |
TiN, CrN, AlCrN, etc. |
其他復(fù)合涂層 |
TiAlCrN, TiSiN,TiAlCN,etc. |
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生產(chǎn)周期 |
4-6小時(shí)/爐 |
外圍尺寸 |
L5800XW2100XH2100mm L4800XW3000XH2100 |
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使用范圍 |
適用于滾刀，鉆頭，棒狀銑刀，微鉆，刀粒等。 |
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應(yīng)用
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中文 
