
5.很好的薄膜均勻性和重復(fù)性
設(shè)備簡(jiǎn)述
5.很好的薄膜均勻性和重復(fù)性
	
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				 爐體尺寸  | 
			
				 φ1900*H1300  | 
			
				 有效空間  | 
			
				 φ1600*H1000  | 
		
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				 工件最大直徑*數(shù)量  | 
			
				 φ175*20  | 
			
				 標(biāo)準(zhǔn)配置  | 
			
				 陰極弧8個(gè)/中頻圓柱靶6對(duì)  | 
		
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				 工作電壓/頻率  | 
			
				 380V/50Hz  | 
			
				 實(shí)際功率  | 
			
				 120KW  | 
		
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				 應(yīng)用技術(shù)  | 
			
				 ZP+ARC(選配)  | 
			
				 靶材數(shù)量  | 
			
				 圓柱靶12個(gè)/弧靶8個(gè)  | 
		
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				 極限壓力  | 
			
				 5.0×10-4Pa  | 
			
				 漏率  | 
			
				 <10-3Pa.L/s  | 
		
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				 抽氣時(shí)間  | 
			
				 大氣到4X10-3 < 25分鐘  | 
			
				 真空系統(tǒng)  | 
			
				 分子泵、羅茨泵、旋片泵  | 
		
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				 標(biāo)準(zhǔn)涂層效果  | 
			
				 IP黑,玫瑰金,IP金,寶石藍(lán),香檳金,炫銀,咖啡色,七彩,槍黑色,鋯金,玫瑰紅等  | 
			
				 電源類型  | 
			
				 直流疊加脈沖偏壓電源、中頻磁控濺射電源、專用真空弧電源  | 
		
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				 工件轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)  | 
			
				 下轉(zhuǎn)架結(jié)構(gòu)  | 
			
				 真空室結(jié)構(gòu)  | 
			
				 立式單開(kāi)門(mén)  | 
		
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				 生產(chǎn)周期  | 
			
				 1.5-3.5小時(shí)/爐  | 
			
				 外圍尺寸  | 
			
				 L3600*W3200*H2600mm  | 
		
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				 控制方式  | 
			
				 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化  | 
			
				 配套條件  | 
			
				 循環(huán)水壓力:2-3KG/CM3  | 
		
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				 工業(yè)PC+工控軟件+PLC  | 
			
				 水量:10T/H  | 
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				 自己開(kāi)發(fā)的鍍膜專用控制軟件  | 
			
				 壓縮空氣:4-6 KG/CM3  | 
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				 工作氣體  | 
			
				 Ar、N2、O2、C2H2等  | 
			
				 應(yīng)用  | 
			
				 裝飾類產(chǎn)品鍍膜  | 
		
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				 備注  | 
			
				 真空室尺寸,外圍尺寸,設(shè)備外觀等可按客戶產(chǎn)品或及特殊工藝要求訂做,以上信息僅供參考。  | 
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