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產(chǎn)品中心

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ITO高光透導(dǎo)電玻璃鍍膜線

本公司生產(chǎn)的ITO高光透導(dǎo)電玻璃鍍膜線，是用氧化銦錫(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金屬靶材組合，在高度凈化的廠房環(huán)境中，利用平面磁控技術(shù)，在超薄玻璃上濺射氧化銦錫導(dǎo)電薄膜鍍層得到的高技術(shù)產(chǎn)品。
產(chǎn)品詳情

  • 　設(shè)備簡述


    　　本公司生產(chǎn)的ITO高光透導(dǎo)電玻璃鍍膜線，是用氧化銦錫(Indium-Tin Oxide)靶材和其它金屬靶材組合，在高度凈化的廠房環(huán)境中，利用平面磁控技術(shù)，在超薄玻璃上濺射氧化銦錫導(dǎo)電薄膜鍍層得到的高技術(shù)產(chǎn)品。廣泛地用于液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域，在壓克力板材、玻璃、陶瓷、手機(jī)殼、電腦、PC、PET等表面磁控濺射高質(zhì)量、多功能金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜(ITO)、抗反射膜(AR)、增反射膜等。具有大吞吐量連續(xù)式磁控金屬化生產(chǎn)，采用同行業(yè)最先進(jìn)的生產(chǎn)工藝，極大地提高了膜層與工件的結(jié)合力、附著力。

    　　設(shè)備參數(shù)

    腔體

    4pcs

    進(jìn)/出架室

    L2600×W300×H2200mm

    1.72m3

    進(jìn)/出架儲氣罐室

    Φ500×H1600mm

    2.51m3

    占地

    30m×10m

    進(jìn)/出架傳輸室

    L2500×W200×H2000mm

    1.00m3

    鍍膜室主真空室

    L1300×W250×H2200mm

    0.72m3

    玻璃架鍍膜窗口尺寸

    L2300×H1600

    進(jìn)/出玻璃架節(jié)拍

    5 mins

    應(yīng)用技術(shù)

    磁控濺射

    電源

    直流電源40KW，中頻電源40kw

    磁控靶

    14pcs

    ITO平面靶4支,Al圓柱靶8支, Cu圓柱靶1支, SS圓柱靶1支

    應(yīng)用

    液晶顯示器(LCD)、太陽能電池、微電子ITO導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域玻璃連續(xù)鍍膜

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